智能型HMDS蒸鍍機(jī)臺(tái)概述

智能型HMDS蒸鍍機(jī)臺(tái)通過對(duì)烘箱預(yù)處理過程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料預(yù)處理及相關(guān)行業(yè)。

特點(diǎn)

Ø  預(yù)處理性能更好：由于是在經(jīng)過數(shù)次的氮?dú)庵脫Q后進(jìn)行的HMDS處理，所以不會(huì)在有塵埃的干擾，再者，由于該系統(tǒng)是將"去水烘烤"和HMDS處理放在同一道工藝，同一個(gè)容器中進(jìn)行，晶片在容器里先經(jīng)過100℃-200℃的去水烘烤，再接著進(jìn)行HMDS處理，不需要從容器里傳出，而接觸到大氣，晶片吸收水分子的機(jī)會(huì)大大降低，所以有著更好的處理效果。

Ø  處理更加均勻：由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上，所以有液態(tài)涂布不可比擬更好的均勻性。

Ø  效率高：液態(tài)涂布是單片操作，而本系統(tǒng)一次可以處理多達(dá)8盒（4寸）的晶片。

Ø  更加節(jié)省藥液：實(shí)踐證明，用液態(tài)HMDS涂布單片所用的藥液比用本系統(tǒng)處理4盒晶片所用藥液還多。

?系統(tǒng)結(jié)構(gòu)

Ø  加熱系統(tǒng)：由于工藝的整個(gè)過程都需要在200℃左右的環(huán)境下進(jìn)行，所以自始至終加熱系統(tǒng)都在工作。本系統(tǒng)采用在腔內(nèi)分布兩塊獨(dú)立的熱板來實(shí)現(xiàn)加熱，每個(gè)熱板都采用人工智能PID調(diào)節(jié)儀實(shí)現(xiàn)閉環(huán)控制，調(diào)節(jié)儀控制固態(tài)繼電器的輸出從而實(shí)現(xiàn)溫度的精確穩(wěn)定控制，測(cè)溫采用通用的高精度熱敏電阻Pt100。

Ø  真空系統(tǒng)：由真空泵、真空組件、真空測(cè)量等組成，主要作用是置換氣體和抽走剩余HMDS蒸汽。

Ø  充氮系統(tǒng)：作用是在置換過程中，用氮?dú)鈦碇饾u稀釋空氣或藥液蒸汽，從而終替換空氣或藥液蒸汽的氣氛。主要由氮?dú)庠础⒖刂崎y和噴頭組成。